無異常表現(xiàn)。

　　顳葉癲癇時可進行如下檢查：

　　1.結構性影像學檢查結構性神經(jīng)影像學評估包括CT、MRI、MRS、fMRI等檢查法。它們是當今最常用的方法，能夠查出結構性腦病變的存在及其部位，CT能發(fā)現(xiàn)明顯的結構性病變，如腫瘤，AVM，鈣化，萎縮性病變等，但MRI比CT診斷顳葉癲癇更加敏感，不僅能查出腫瘤，錯構瘤，海綿狀血管瘤，還有皮質(zhì)發(fā)育異常以及顳葉內(nèi)側硬化-海馬硬化，MRI可查出90%的顳葉內(nèi)側硬化。在冠狀位像上T2加權像或FLAIR像上顯示內(nèi)側顳葉有增高的信號。T1加權像可清晰地顯示顳葉海馬萎縮。進行MRI海馬容積測定，更能定量地查出海馬萎縮，而且特異性和敏感性極高，能對76%～93%的海馬硬化病人準確定位。是診斷顳葉內(nèi)側癲癇最直觀的方法。中國人海馬正常值：右側海馬為2.95cm3±0.3cm3（下限是2.62cm3）；左側海馬為2.8cm3±0.3cm3（下限為2.48cm）。但海馬體積如在臨界值時或體積無明顯異常時，需仔細觀察FLAIRT2WI圖像上海馬信號的改變，當海馬膠質(zhì)增生時，其體積可不縮小，而表現(xiàn)為信號的明顯增高。MRS是目前惟一無創(chuàng)活體顯示組織代謝的影像學方法，常測的波峰有：①NAA（N-乙酰天門冬氨酸），幾乎只位于神經(jīng)元之內(nèi)；②Cho（膽堿）；③）Cr（肌酸）。后兩者在膠質(zhì)細胞中含量較高，可作為神經(jīng)膠質(zhì)增生的標志。臨床上常用NAA與Cr或CrCho的比值作為判斷正常與否的標準。在正常的灰質(zhì)，多以>0.6為正常標準。用NAA/CrCho值對顳葉癲癇進行定側診斷的敏感性達75%～88%，比MRI和PET更敏感。

　　2.功能性神經(jīng)影像檢查功能性磁共振成像（fMRI）可有助于顳葉癲癇的定側，并能測出癇灶和其腦重要功能區(qū)的部位，有人認為fMRI可以代替經(jīng)典的頸動脈Amytal試驗，減輕病人的痛苦。核醫(yī)學儀器的迅速發(fā)展，已經(jīng)能夠三維顯示局部腦血流灌注和葡萄糖代謝及多種受體的分布，有單光子發(fā)射計算機斷層掃描和正電子發(fā)射斷層掃描。SPECT研究證實癲癇發(fā)作間期癇灶呈低灌注血流，發(fā)作期癇灶血流灌注明顯增加。顳葉癲癇病人在發(fā)作期97%呈異常腦血流高灌注。PET常用腦代謝顯像-18F-FDG測定局部腦葡萄糖代謝率，在顳葉癲癇病人，有70%～80%的病人，于發(fā)作間期單側顳葉葡萄糖率降低。發(fā)作期呈高代謝狀態(tài)。這種方法有人認為可以代替深部電極和皮質(zhì)ECoG的應用。不過PET所見的低代謝范圍一般較實際的病變范圍要大，它是一種無創(chuàng)傷的檢查方法，它是一種分子核醫(yī)學的高尖技術。并可通過三維重建直觀的進行癲癇灶定位。尤其對結構性影像檢查陰性的癲癇可做出正確診斷。不過應與電生理檢查結果相一致，其癇灶的定位可靠性就大。

　　3.腦電圖檢查（EEG）是對本病定測定位的主要手段。一般頭皮電極的診斷率只可使1/4病人得到確診，故應加用咽部或蝶骨電極以提高診斷的準確率。對顳葉癲癇的病人EEG反復多次檢查包括發(fā)作期與發(fā)作間歇期、停藥前后、睡眠期或禁睡期，將會進一步提高診斷率。在顳葉癲癇淺睡眠狀態(tài)下記錄EEG所發(fā)現(xiàn)的顳葉癲癇的異常波比清醒狀態(tài)可提高達80%.

　　在一側顳葉病變引起兩側顳葉異常放電活動屢有報道，這主要是由海馬經(jīng)過邊緣系統(tǒng)環(huán)路放電擴散的結果。在這種情況下如何確定癇灶側，對手術治療十分必要，如遇兩側顳葉都有放電，則應在一側頸動脈注射異戊巴比妥200mg后該側癲癇放電消失，而另一側繼續(xù)存在，更換另一側頸動脈注射異戊巴比妥進行同上試驗，當病側注藥后，則兩側顳葉癇性放電均消失，而對側注藥后只能使同側消失此乃鏡面灶側。最近有人采用深部埋藏電極，將電極置入杏仁核及海馬，進行長時間（幾天至幾周）檢查，可提供最有價值的結果。

　　術前腦電圖評估目前仍然是最重要的癲癇診斷和癇灶定位方法，由于腦電技術的發(fā)展迅速，一些具有高抗干擾能力，對癲癇灶定位精確度高，又能視頻監(jiān)護和數(shù)字圖像幀同步、同屏采集及回放，分析系統(tǒng)的無紙腦電圖儀已能滿足臨床上的需要，無疑方便了神經(jīng)外科醫(yī)師的工作。但常規(guī)的腦電圖檢查和分析仍需腦電圖醫(yī)師重視，如對顳葉癲癇病人需加作蝶骨電極和（或）卵圓孔電極腦電圖檢查，是極其重要的。對于顳葉癲癇病人來說，術前進行視頻腦電（VEEG）監(jiān)測，確定癲癇灶是必不可少的一項重要檢查。另外，在術前評估時，在某些情況下（癇灶不易定位時），需采用有微創(chuàng)的顱內(nèi)電極植入法記錄腦電活動，明確癇灶部位。如植入深部電極（通過立體定向手術方法），或將釘狀電極植入于硬膜外，或將條狀電極或網(wǎng)狀電極植入于硬腦膜下。應有選擇地采用該項檢查，精確地測出癇灶的范圍和其致癇性。在圍手術期（也即開顱手術期間）直接用電極記錄腦表面皮質(zhì)的電活動（ECoG）和直接用徒手插入深電極于顳葉深部的杏仁、海馬結構記錄有無致癇活動存在。醫(yī)學教.育網(wǎng)搜集整理除了明確致癇的神經(jīng)元外，還能了解手術切除致癇腦組織的界線。

　　顳葉癲癇發(fā)作間期頭皮EEG可呈如下表現(xiàn)：

　?。?）無異常。

　?。?）背景活動輕度或顯著的不對稱。

　?。?）顳葉棘波、尖波和（或）慢波，單側或雙側同步的，但也可不同步的。這些異常并不總限于顳區(qū)。

　?。?）除了頭皮EEG異常外，顱內(nèi)描記能更準確地發(fā)現(xiàn)發(fā)作間期異常的顱內(nèi)分布。