創(chuàng)傷性口炎形成原因：

一、機(jī)械性因素

這是創(chuàng)傷性口炎最多見的原因，常形成創(chuàng)傷性潰瘍。按刺激持續(xù)時間的不同，可分為持久性及非持久性刺激因素。持久性刺激因素包括齲齒破壞后的殘冠、殘根、尖銳的牙尖，經(jīng)磨損后的牙齒銳緣，不良修復(fù)體的卡環(huán)、尖銳邊緣，過長的基板，舌系帶過短時與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長期存留在口腔內(nèi)可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素。非持久性機(jī)械刺激包括硬、脆食物（如油炸或烘烤過的較硬食物）、硬橡皮制成的奶嘴、咀嚼不慎時的咬傷、牙刷太舊不整齊的刷毛、刷牙用力不當(dāng)、口腔科醫(yī)師使用器械操作不當(dāng)、或其他外傷等均可對口腔粘膜造成急性損傷。

二、化學(xué)因素

常見的化學(xué)物質(zhì)為具有腐蝕性的強(qiáng)酸、強(qiáng)堿，口腔治療用藥酚、硝酸銀、三氧化二砷等接觸了口腔粘膜。臨床上多見于誤入口腔或使用不當(dāng)，有時則為自傷性。

三、物理性因素

口腔粘膜的熱損傷并不多見，偶因飲料、茶水或食物過燙時引起粘膜燙傷。醫(yī)|學(xué)教育網(wǎng)搜集整理超過一定劑量放射線全身或頭面部照射，可引起全身和口腔組織損傷，造成急性放射病和/或放射性口炎，主要變化是炎癥。戰(zhàn)時發(fā)生在核武器爆炸后，和平時期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起。